氧化鈰拋光液：是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。粒度在0.2μm-1.2μm范圍內(nèi);包 裝：25KG/桶。本品需在0 ℃以上儲存，防止結(jié)冰，在0 ℃以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。可根據(jù)用戶需要配制不同濃度和不同粒度的氧化鈰研磨液。

應(yīng)用范圍：硅晶圓片拋光、鍺片拋光、砷化鎵拋光、磷化銦拋光、光學(xué)晶體拋光、藍(lán)寶石襯底拋光、LED襯底拋光、硒化鋅拋光、玻璃拋光、石英拋光等。也用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。